3~ 8 inch Wafer나 3~7 inch Mask와 LCD 검사가 가능하며, 주문 Stage
사용 시 12inch Wafer 검사도 가능한 Model입니다.
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IC Wafer ,Liquid Crystal Displays, Optical Disc,
Compact and Laser Disc등 어떠한검사든지 가능한 Nikon의 OPTIPHOT
300 Model은 정밀한 검사와 쉬운 사용으로검사용 현미경의 기준이 되었습니다. |
고 배율에서의 안정된 관찰을 위해 Nikon 의 모든 현미경의 Rigidity 를 강화한 형태로
Design 되었습니다.
ikon 의 새로 개발된 CF 무한광학 System은 CF 광학 기술과 무한 광학 기술의 장점을
결합해 이전의 대물렌즈에서 발생하던 Flare 효과를 획기적으로 감소시켜 더욱 선명한 Image
를 얻을 수 있습니다 . 5X~50X 에 이르는 대물렌즈의 N.A (Numerical Aperture)를
증가시킨 새로운 System 으로 더욱 좋은 해상력과 밝고 선명한 Image 를 얻을 수 있습니다.
세계 최초의 0.5배 대물렌즈 사용 가능 / 지름 50mm까지 관찰 가능
150 W Metal Halide 조명과 빛을 효율적으로 전달하는 Mirror 와 liquid
Fiber 의 조합으로 구성된 Pinhole 조명은 고 배율에서의관찰 효율을 더욱 증가 시켜
줍니다.
따라서, Contact Hole 와 같은 높은 밝기와 초점심도가 요구되는 Sample 관찰 시
매우 유용합니다.
다양한 Eytpiece Tube 의 사용은 사용자가 자연스러운 자세로 관찰을 가능하게 함으로써
검사 효율을 더욱 향상 시켜 줍니다.
단지 Mirror Block 을 교환함으로써 암시야, 명시야, DIC,또는 형광 관찰까지 관찰 방법을
변화 시킬 수 있습니다.
더욱 편리한 관찰을 위해 초점 조절 손잡이는 Stage 아래 전면부위에 위치해 있으며, Stage
조절 손잡이는 Stage의 작은 움직임과 큰 움직임을 간편하게 선택 할 수 있게 설계되었습니다.
자주 사용 되어지는 모든 기능은 원격조정 Keypad 로 조절 가능 합니다. |
Upright Microscopes
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